真空灭弧室如何提高内部绝缘水平
本文作者:大禹汉光 发布时间:2015-10-15
目前,真空灭弧室有小型化的趋势,而这也突出了电场的分布的重要性,真空灭弧室内部电气间隙缩小后仍需承受标准所规定的绝缘电压,这就需要对内部电场进行优化分析与测算,借助计算机分析软件对开灭弧室部结构进行了多次电场计算,对内部各部件结构进行多次修改设计,优化后的内部电场分布均匀,降低了瓷壳内表面沿面的电场强度及三相界面的电场强度,消除了主屏蔽罩两端口处的尖峰电场,改善了屏蔽罩的均压作用。
另外还对主屏蔽罩与导电杆之间的间隙进行了改进。改进后触头间隙中的电场强度有了一定程度的降低,进一步缓解了主间隙间的电场应力,提高了介质恢复速度。
通过软件的分析不断的对内部各零部件尺寸、形状、位置等进行调整,最终的结果是使灭弧室内部各处电场强度尽量分布均匀,消除各处可能出现的尖端电场,以有效地降低瓷壳内表面沿面的电场强度及三相界面的电场强度,从而提高产品的绝缘强度及弧后介质恢复速度。优化设计后尽可能使得真空灭弧室内中间屏蔽罩上的电位为50%,动静端两端对称分布,从图中可见电场分布基本均匀,三相界面处的得到了有效的屏蔽,无电场集中现象,这就有效的保证了体积减小后对电压的耐受能力。
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